CMP抛光材料行业深度分析:晶圆平坦化关键耗材,国产替代空间广阔-广发证券2021
CMP抛光材料是晶圆表面平坦化的关键耗材,随着芯片制程升级,抛光步骤增至30-42步。2020年全球CMP材料市场规模达24.8亿美元,国内约32亿元,抛光液和抛光垫分别占成本49%和33%。海外巨头垄断,国产替代迫在眉睫,推荐关注抛光液和抛光垫国产化机遇。
CMP抛光材料是晶圆表面平坦化的关键耗材,随着芯片制程升级,抛光步骤增至30-42步。2020年全球CMP材料市场规模达24.8亿美元,国内约32亿元,抛光液和抛光垫分别占成本49%和33%。海外巨头垄断,国产替代迫在眉睫,推荐关注抛光液和抛光垫国产化机遇。
CMP抛光材料是晶圆表面平坦化的关键耗材,随着芯片制程升级,抛光步骤增至30-42步。2020年全球CMP材料市场规模达24.8亿美元,国内约32亿元,抛光液和抛光垫分别占成本49%和33%。海外巨头垄断,国产替代迫在眉睫,推荐关注抛光液和抛光垫国产化机遇。
CMP抛光材料是晶圆表面平坦化的关键耗材,随着芯片制程升级,抛光步骤增至30-42步。2020年全球CMP材料市场规模达24.8亿美元,国内约32亿元,抛光液和抛光垫分别占成本49%和33%。海外巨头垄断,国产替代迫在眉睫,推荐关注抛光液和抛光垫国产化机遇。核心数据:24.8亿美元;32亿元。
本报告由广发证券发布,发布于 2021 年。
覆盖 2021 年,全文约 33。
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适合投资者、研究员、企业高管等读者参考。
重点分析了管理咨询、抛光材料、广发证券、CMP等议题。