光刻机光学系统国产化：市场规模35亿美元，蔡司领先，中国蔡司可期

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报告摘要

光刻机光学系统是半导体设备核心，全球市场35亿美元，中国5亿美元。蔡司垄断高端，国产替代加速，茂莱光学等突破i-line物镜。ASML、佳能、尼康占全球96%份额，EUV绝对垄断。

光刻机光学系统是半导体设备核心，全球市场35亿美元，中国5亿美元。蔡司垄断高端，国产替代加速，茂莱光学等突破i-line物镜。ASML、佳能、尼康占全球96%份额，EUV绝对垄断。核心数据:196亿美元;35亿美元;5亿美元。

本报告由国金证券发布,发布于 2023 年。

覆盖 2023 年。

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适合半导体投资机构、光刻机产业链企业、电子行业研究员等读者参考。

重点分析了管理咨询、蔡司领先、蔡司可期、亿美元等议题。