半导体设备系列报告之光刻机：走进“芯”时代系列深度之八十四“光刻机”，国产路漫其修远，中国芯上下求索-240718-华金证券

2024-07装备制造118📊 华金证券免费

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🎯 适合读者: 战略规划行业研究员
📊 核心数据: 晶圆厂&产线扩产带动光刻机需求，其中中国预计至2024年底建立50座大型晶圆厂。
多重图形技术（MPT）中，LELE主要原理为化繁为简，SADP，一次
u 行业一超两强格局稳定,新建晶圆厂&产线扩产&下游需求蓬勃发展拉动光刻机需求。
ASML与上下游龙头公司紧密合作，产学研深入发展带动技术革新，进而巩固光刻机绝
Nikon核心技术自主可控，以高质量产品、高附加服务为导向，构建良性生态循环；
🏷️ 核心议题: #装备制造#装备制造业

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报告摘要

u 光源、数值孔径、工艺系数、机台四轮驱动，共促光刻产业升级。分辨率由光源波长、数值孔径、光刻工艺因子决定.（1）光源波长（λ）——光源：其他条件不变下，光源波长越短，光刻机分辨率越高。

📋 核心要点(部分)

分析师：孙远峰
分析师：王海维
目前，从光刻机核心技术领域分析，针对准激光光源，科益虹源主要研发248nm准分子激光器、

❓ 常见问题

《半导体设备系列报告之光刻机：走进“芯”时代系列深度之八十四“光刻机”，国产路漫其修远，中国芯上下求索-240718-华金证券》主要包含哪些内容?

u 光源、数值孔径、工艺系数、机台四轮驱动，共促光刻产业升级。分辨率由光源波长、数值孔径、光刻工艺因子决定.（1）光源波长（λ）——光源：其他条件不变下，光源波长越短，光刻机分辨率越高。核心数据:晶圆厂&产线扩产带动光刻机需求，其中中国预计至2024年底建立50座大型晶圆厂。;多重图形技术（MPT）中，LELE主要原理为化繁为简，SADP，一次;u 行业一超两强格局稳定,新建晶圆厂&产线扩产&下游需求蓬勃发展拉动光刻机需求。。

这份报告由哪家机构发布?

本报告由华金证券发布,发布于 2024 年。

这份报告覆盖哪一年、篇幅多大?

覆盖 2024 年,全文约 118。

这份报告是免费的吗?如何获取?

本报告免费查阅,登录资料宝后即可在线获取完整内容。

这份报告适合哪些读者?

适合战略规划、行业研究员等读者参考。

报告涉及哪些关键议题?

重点分析了装备制造、装备制造业等议题。