光刻技术六十年

2025-03半导体芯片21📊 中国科学院大学免费

📄 文件全名: 《光刻技术六十年-21页.pdf》
🎯 适合读者: 战略规划行业研究员
📊 核心数据: 与微/纳米加工技术是人类迄今为止所能达到的精度最高的加工技术。
1994 年有个比较“乐观”的长期预测：2007 年
IC 最细线宽可以达到 0. 1 μm（保守预计为 0. 5 μm）。
这些预测都被光刻技术飞快前进的步伐远远
🏷️ 核心议题: #集成电路

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报告摘要

中国科学院微电子研究所，北京 100029；中国科学院大学集成电路学院，北京 100049 当今世界离不开信息产业，信息产业离不开半导体集成电路芯片制造技术，即微电子技术。

📋 核心要点(部分)

0922031 -1
1980 年左右有人预言：光刻线宽不可能小于
1 μm。
1989 年又有人预言：到 1997 年光刻技术将走到
1994 年有个比较“乐观”的长期预测：2007 年
2. 1

❓ 常见问题

《光刻技术六十年》主要包含哪些内容?

中国科学院微电子研究所，北京 100029；中国科学院大学集成电路学院，北京 100049 当今世界离不开信息产业，信息产业离不开半导体集成电路芯片制造技术，即微电子技术。核心数据:与微/纳米加工技术是人类迄今为止所能达到的精度最高的加工技术。;1994 年有个比较“乐观”的长期预测：2007 年;IC 最细线宽可以达到 0. 1 μm（保守预计为 0. 5 μm）。。

这份报告由哪家机构发布?

本报告由中国科学院大学发布,发布于 2025 年。

这份报告覆盖哪一年、篇幅多大?

覆盖 2025 年,全文约 21。

这份报告是免费的吗?如何获取?

本报告免费查阅,登录资料宝后即可在线获取完整内容。

这份报告适合哪些读者?

适合战略规划、行业研究员等读者参考。

报告涉及哪些关键议题?

重点分析了集成电路等议题。