电子行业专题研究：光刻，自主可控核心环节，国产替代迫在眉睫-250422-国盛证券

2025-04智能制造47免费

📄 文件全名: 《电子行业专题研究：光刻，自主可控核心环节，国产替代迫在眉睫-250422-国盛证券-47页.pdf》
🎯 适合读者: 战略规划行业研究员
📊 核心数据: 要 60-90 步光刻工艺，光刻成本占比约为 30%，耗费时间占比约为 4050%。
收入占比中，EUV 机型贡献了 39.4%，ArFi 机型占比 45.8%，从产品
光刻：自主可控核心环节，国产替代迫在眉睫
分辨率、套刻精度、产能为光刻机核心参数。
光刻中的核心工具包括光掩膜、光刻机和光刻胶，分辨率、套刻
🏷️ 核心议题: #制造#电子#设备#材料

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报告摘要

光刻：自主可控核心环节，国产替代迫在眉睫分辨率、套刻精度、产能为光刻机核心参数。程中技术难度最大、成本最高、周期最长的环节，直接决定了芯片的最

📋 核心要点(部分)

2025 年 04
124 台，需求量为 727 台，供需关系严重不匹配，本土厂商供给能力
2025 年
04 a月

❓ 常见问题

《电子行业专题研究：光刻，自主可控核心环节，国产替代迫在眉睫-250422-国盛证券》主要包含哪些内容?

光刻：自主可控核心环节，国产替代迫在眉睫分辨率、套刻精度、产能为光刻机核心参数。程中技术难度最大、成本最高、周期最长的环节，直接决定了芯片的最核心数据:要 60-90 步光刻工艺，光刻成本占比约为 30%，耗费时间占比约为 4050%。;收入占比中，EUV 机型贡献了 39.4%，ArFi 机型占比 45.8%，从产品;光刻：自主可控核心环节，国产替代迫在眉睫。

这份报告覆盖哪一年、篇幅多大?

覆盖 2025 年,全文约 47。

这份报告是免费的吗?如何获取?

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这份报告适合哪些读者?

适合战略规划、行业研究员等读者参考。

报告涉及哪些关键议题?

重点分析了制造、电子、设备、材料等议题。