半导体行业光掩模：高壁垒材料，国产化率低，下游新应用打开成长新空间-250519-天风证券

2025-05智能制造50免费

📄 文件全名: 《半导体行业光掩模：高壁垒材料，国产化率低，下游新应用打开成长新空间-250519-天风证券-50页.pdf》
🎯 适合读者: 战略规划行业研究员
📊 核心数据: 从 2012 到 2020 年，全球光掩模市场规模逐年增长。
场，英特尔、三星、台积电等晶圆厂自行配套的掩模版工厂占据 65%的份额，其它的掩模版主要被美国 Photronics、
2.1. 市场规模逐年增长，国内需求不断增加 ........................................................................... 14
3）下游：下游需求的增长驱动了光掩模行业的发展。
光掩模市场达到 52 亿美元。
🏷️ 核心议题: #制造#工业#电子#设备

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报告摘要

光掩模，即光刻掩模版，又称光罩掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移母版，是平板显示、半导体、触控、电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。掩模版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行

📋 核心要点(部分)

2025 年 05 月 19 日
受终端应用趋向大尺寸化的发展趋势
202 4-05
1 《半导体-行业专题研究:海外半导体
Q1 总结：各大终端展望乐观，A 股 Q2
业绩环比展望乐观》 2025-05-14
2 《半导体-行业研究周报:一季报总结：
3 《半导体-行业研究周报:重视自主可

❓ 常见问题

《半导体行业光掩模：高壁垒材料，国产化率低，下游新应用打开成长新空间-250519-天风证券》主要包含哪些内容?

光掩模，即光刻掩模版，又称光罩掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移母版，是平板显示、半导体、触控、电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。掩模版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行核心数据:从 2012 到 2020 年，全球光掩模市场规模逐年增长。;场，英特尔、三星、台积电等晶圆厂自行配套的掩模版工厂占据 65%的份额，其它的掩模版主要被美国 Photronics、;2.1. 市场规模逐年增长，国内需求不断增加 ........................................................................... 14。

这份报告覆盖哪一年、篇幅多大?

覆盖 2025 年,全文约 50。

这份报告是免费的吗?如何获取?

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这份报告适合哪些读者?

适合战略规划、行业研究员等读者参考。

报告涉及哪些关键议题?

重点分析了制造、工业、电子、设备等议题。