聚焦基础化工行业:继续关注“去日化”交易,关注湿电子化学品和光刻胶单体。湿电子化学品:AI需求驱动,去日化国产化率有望再度提升湿电子化学品主要用于半导体、显示面板等电子器件制造中的清洗、蚀刻、显影、剥离等湿法环节,其经过严格纯化、杂质含量极低,具备较高的技术壁垒及客户粘性。此外,我国湿电子化学品行业依托上游通用化工品原料的稳定供应,叠加下游国内存储、逻辑芯片产能的高速扩张以及客户验证加速,我国在 G5 级高端湿电子化学品行业的产品结构升级和国产化率提升有望持续兑现。ArF光刻胶单体日本高度垄断,国产化有望加速光刻胶树脂单体被日企长期垄断、断供风险突出,即使是日本光刻胶企业,在单体上也会进行外购,因此光刻胶的国产化突破不能完全保障自主可控,单体的去日化才能保障国内供给的可靠性。
聚焦基础化工行业:继续关注“去日化”交易,关注湿电子化学品和光刻胶单体。湿电子化学品:AI需求驱动,去日化国产化率有望再度提升湿电子化学品主要用于半导体、显示面板等电子器件制造中的清洗、蚀刻、显影、剥离等湿法环节,其经过严格纯化、杂质含量极低,具备较高的技术壁垒及客户粘性。此外,我国湿电子化学品行业依托上游通用化工品原料的稳定供应,叠加下游国内存储、逻辑芯片产能的高速扩张以及客户验证加速,我国在 G5 级高端湿电子化学品行业的产品结构升级和国产化率提升有望持续兑现。ArF光刻胶单体日本高度垄断,国产化有望加速光刻胶树脂单体被日企长期垄断、断供风险突出,即使是日本光刻胶企业,在单体上也会进行外购,因此光刻胶的国产化突破不能完全保障自主可控,单体的去日化才能保障国内供给的可靠性。
聚焦基础化工行业:继续关注“去日化”交易,关注湿电子化学品和光刻胶单体。湿电子化学品:AI需求驱动,去日化国产化率有望再度提升湿电子化学品主要用于半导体、显示面板等电子器件制造中的清洗、蚀刻、显影、剥离等湿法环节,其经过严格纯化、杂质含量极低,具备较高的技术壁垒及客户粘性。此外,我国湿电子化学品行业依托上游通用化工品原料的稳定供应,叠加下游国内存储、逻辑芯片产能的高速扩张以及客户验证加速,我国在 G5 级高端湿电子化学品行业的产品结构升级和国产化率提升有望持续兑现。ArF光刻胶单体日本高度垄断,国产化有望加速光刻胶树脂单体被日企长期垄断、断供风险突出,即使是日本光刻胶企业,在单体上也会进行外购,因此光刻胶的国产化突破不能完全保障自主可控,单体的去日化才能保障国内供给的可靠性。
本报告由中信建投发布,发布于 2026 年。
覆盖 2026 年。
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重点分析了化学、化工、电子、人形机器人等议题。