光刻机行业研究框架：国产替代曙光初现，28nm DUV有望突破

报告摘要

光刻机作为前道工艺七大设备之首，价值占比高达23%，全球CR3达99%。国产替代迎来曙光，28nm ArF浸没式DUV光刻机预计2020年底验收，实现从0到1突破。关注上海微电子、科益虹源等核心组件及光刻配套设施标的。

《光刻机行业研究框架：国产替代曙光初现，28nm DUV有望突破》主要包含哪些内容?

光刻机作为前道工艺七大设备之首，价值占比高达23%，全球CR3达99%。国产替代迎来曙光，28nm ArF浸没式DUV光刻机预计2020年底验收，实现从0到1突破。关注上海微电子、科益虹源等核心组件及光刻配套设施标的。核心数据:28nm。

这份报告由哪家机构发布?

本报告由方正证券发布,发布于 2020 年。

这份报告覆盖哪一年、篇幅多大?

覆盖 2020 年,全文约 108。

这份报告是免费的吗?如何获取?

本报告免费查阅,登录资料宝后即可在线获取完整内容。

这份报告适合哪些读者?

适合半导体从业者、投资者、行业分析师等读者参考。

报告涉及哪些关键议题?

重点分析了管理咨询、有望突破、光刻机、DUV等议题。