光刻机行业研究框架：国产替代曙光初现，28nm DUV有望突破
2020-06管理咨询108📊 方正证券免费
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- 《光刻机行业研究框架-方正证券》
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- 📊 核心数据
- 28nm
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- #管理咨询#有望突破#光刻机#DUV
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报告摘要
光刻机作为前道工艺七大设备之首，价值占比高达23%，全球CR3达99%。国产替代迎来曙光，28nm ArF浸没式DUV光刻机预计2020年底验收，实现从0到1突破。关注上海微电子、科益虹源等核心组件及光刻配套设施标的。
📋 核心要点(部分)
- 核心要点
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- 国产替代进展
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- 投资建议
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