氮化镓第三代半导体核心材料:5G基站与电源设备需求爆发
氮化镓(GaN)作为第三代半导体核心材料,凭借高禁带宽度、高电子迁移率等优势,在5G基站射频器件和电力电子领域需求旺盛。预计2023年基站端GaN射频器件规模达112.6亿元。海外厂商主导供给,我国企业需突破。
氮化镓(GaN)作为第三代半导体核心材料,凭借高禁带宽度、高电子迁移率等优势,在5G基站射频器件和电力电子领域需求旺盛。预计2023年基站端GaN射频器件规模达112.6亿元。海外厂商主导供给,我国企业需突破。
氮化镓(GaN)作为第三代半导体核心材料,凭借高禁带宽度、高电子迁移率等优势,在5G基站射频器件和电力电子领域需求旺盛。预计2023年基站端GaN射频器件规模达112.6亿元。海外厂商主导供给,我国企业需突破。
氮化镓(GaN)作为第三代半导体核心材料,凭借高禁带宽度、高电子迁移率等优势,在5G基站射频器件和电力电子领域需求旺盛。预计2023年基站端GaN射频器件规模达112.6亿元。海外厂商主导供给,我国企业需突破。核心数据:328万座;500万座;112.6亿元。
本报告由海通证券发布,发布于 2019 年。
覆盖 2019 年,全文约 11。
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适合投资者、行业研究员、半导体从业者等读者参考。
重点分析了管理咨询、基站等议题。