半导体设备深度报告：详解光刻机｜ASML EUV光刻机｜上海微电子国产光刻机｜2018

报告摘要

光刻机是半导体制造业皇冠上的明珠，直接决定芯片制程与性能。本报告由华创证券出品，深度解析光刻机技术演进、ASML开放式创新模式及国产光刻机龙头上海微电子的突破。核心数据：ASML EUV光刻机单价近1亿欧元，市占率近80%，订单排至2019年达28亿欧元；上海微电子封装光刻机国内市占率80%、全球40%，已实现90nm制程。适合半导体设备投资者、行业研究员、电子工程师及关注国产替代的从业者。